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超硬远红外镀膜膜层结构的制作方法

时间:2020-03-23来源:原创 作者:admin阅读:
  

  超硬远红外镀膜膜层结构的制作方法与工艺

  本实用新型触及增透膜技巧范围,具体地说,触及一种超硬远红外镀膜膜层结构。

  配景技巧:

  光学仪器中,光学元件外表的反射,不只影响光学元件的通光能量,而且这些反射光还会在仪器中构成杂散光,影响光学仪器的成像质量。为了处理这些后果,平日在光学元件的外表镀上必然厚度的单层或多层膜,目标是为了减小元件外表的反射光,如许的膜叫光学增透膜(或减反膜)。

  关于具有超高请求的光学仪器或装备(如天文、航空或许军用等光学仪器或装备),其对远红外响应波段有可视请求,因此需求应用光学增透膜完成增透功用。关于现有的远红外增透膜来讲,其设计层数通俗较多,而随着层数的添加其外表的硬度也会响应的降低。因此,现有的远红外增透膜来很难同时到达较佳的外表硬度和增透后果。

  技巧完成要素:

  本实用新型的内容是供给一种超硬远红外镀膜膜层结构,其可以克制现有技巧的某种或某些缺点。

  依据本实用新型的超硬远红外镀膜膜层结构,其包罗底膜层和顶膜层,底膜层和顶膜层间设有多个中间膜层单位,中间膜层单位包罗自下而上依次层叠的中间膜层组件A和中间膜层组件B;底膜层的材质为五氧化二钽,中间膜层组件A的材质为二氧化硅,中间膜层组件B的材质为四氮化三硅,顶膜层的材质为二氧化硅。

  本实用新型中,底膜层、中间膜层单位和顶膜层可以自下而上的依次层叠,底膜层的材质可以采取五氧化二钽,中间膜层组件A的材质可以采取二氧化硅,中间膜层组件B的材质可以采取四氮化三硅,顶膜层的材质为二氧化硅;经过上述结构,使得本实用新型的膜层结构可以具有较佳的增透后果,且外表硬度可以到达9H以上。

  作为优选,底膜层的厚度为89.52nm。

  作为优选,顶膜层的厚度为84.05nm。

  作为优选,所述多个中间膜层单位的数量为16个,辨别为第一至第十六中间膜层单位。

  作为优选,第一中间膜层单位包罗第一中间膜层组件A和第一中间膜层组件B,第一中间膜层组件A的厚度为64.65nm,第一中间膜层组件B的厚度为82.16nm;

  第二中间膜层单位包罗第二中间膜层组件A和第二中间膜层组件B,第二中间膜层组件A的厚度为129.30nm,第二中间膜层组件B的厚度为82.16nm;

  第三中间膜层单位包罗第三中间膜层组件A和第三中间膜层组件B,第三中间膜层组件A的厚度为129.30nm,第三中间膜层组件B的厚度为82.16nm;

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